高离化磁控溅射技术及其工业应用*

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20211230005

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中国表面工程 ›› 2022, Vol. 35 ›› Issue (5) : 116-144. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20211230005

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高离化磁控溅射技术及其工业应用*

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High Ionization Magnetron Sputtering Technology and Industry Applications

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2022, 35(5): 116-144 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20211230005

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2022, 35(5): 116-144 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.20211230005

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