基于高功率脉冲磁控溅射的Cr膜层研究进展

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.20211230003

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中国表面工程 ›› 2022, Vol. 35 ›› Issue (5) : 56-69. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20211230003

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基于高功率脉冲磁控溅射的Cr膜层研究进展

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Research Progress of Cr Coating Based on High Power Impulse Magnetron Sputtering

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