乙二胺在硅化学机械抛光中的作用机制∗

汪海波，蒋先伟

中国表面工程 ›› 2021, Vol. 34 ›› Issue (4) : 67-73.

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中国表面工程 ›› 2021, Vol. 34 ›› Issue (4) : 67-73. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20210413002
研究论文

乙二胺在硅化学机械抛光中的作用机制∗

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Mechanism Study on Silicon CMP Using Ethylenediamine

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