离子源循环轰击对磁控溅射TiN薄膜结构和电学性能的影响

邵涛,孙德恩,梁斐珂,黄佳木

中国表面工程 ›› 2017, Vol. 30 ›› Issue (1) : 77-82.

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中国表面工程 ›› 2017, Vol. 30 ›› Issue (1) : 77-82. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20160911002
表面工程

离子源循环轰击对磁控溅射TiN薄膜结构和电学性能的影响

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Effects of Ion Source Cycle Bombardment on Structure and Electrical Properties of TiN Films Prepared by Magnetron Sputtering

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