离子注入碳化硅实现低温下外延合成石墨烯

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2016.06.019

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中国表面工程 ›› 2016, Vol. 29 ›› Issue (6) : 136-136. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.2016.06.019

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中国学者海外论文摘要

离子注入碳化硅实现低温下外延合成石墨烯

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