磁场模拟在磁控溅射/阴极弧离子镀中的应用

doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2015.02.002

PDF(15784 KB)

中国表面工程 ›› 2015, Vol. 28 ›› Issue (2) : 27-44. DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.2015.02.002

扫码查看或转发全文

特邀论文

磁场模拟在磁控溅射/阴极弧离子镀中的应用

{{article.zuoZhe_CN}}

作者信息 +

Application of Magnetic Field Simulation on Magnetron Sputtering and Cathodic Arc Ion Plating Deposition Techniques

{{article.zuoZhe_EN}}

Author information +

文章历史 +

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用

{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2015, 28(2): 27-44 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.2015.02.002

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2015, 28(2): 27-44 https://doi.org/10.11933/j.issn.1007-9289.2015.02.002

中图分类号：

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

基金

版权

PDF(15784 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航

选择文件类型/文献管理软件名称

选择包含的内容