铜电致化学抛光抛光液的成分及其作用

单坤, 周平, 蔡吉庆, 康仁科, 郭东明

机械工程学报 ›› 2016, Vol. 52 ›› Issue (5) : 88-94.

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机械工程学报 ›› 2016, Vol. 52 ›› Issue (5) : 88-94. DOI: 10.3901/JME.2016.05.088
微纳制造技术专栏

铜电致化学抛光抛光液的成分及其作用

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Chemical Components and Its Functions of Polishing Solution Used in Electrogenerated Chemical Polishing of Copper

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