等离子增强化学气相沉积制备氮化硅薄膜的工艺优化与性能

张志坤, 占勤, 窦志昂, 白敬元, 杨洪广

材料热处理学报 ›› 2023, Vol. 44 ›› Issue (8) : 149-155.

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材料热处理学报 ›› 2023, Vol. 44 ›› Issue (8) : 149-155. DOI: 10.13289/j.issn.1009-6264.2023-0183
材料表面改性

等离子增强化学气相沉积制备氮化硅薄膜的工艺优化与性能

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Process optimization and performance of plasma enhanced chemical vapor deposition for preparing silicon nitride thin films

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