雾化抛光氮化硅陶瓷基体的工艺参数优化

李庆忠, 高渊魁, 朱强

润滑与密封 ›› 2017, Vol. 42 ›› Issue (11) : 95-99.

PDF(1622 KB)
PDF(1622 KB)
润滑与密封 ›› 2017, Vol. 42 ›› Issue (11) : 95-99. DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2017.11.018
开发应用

雾化抛光氮化硅陶瓷基体的工艺参数优化

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

Optimizing Process Parameters of Atomizing CMP on Silicon Nitride Ceramics Substrate

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2017, 42(11): 95-99 https://doi.org/10.3969/j.issn.0254-0150.2017.11.018
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2017, 42(11): 95-99 https://doi.org/10.3969/j.issn.0254-0150.2017.11.018
中图分类号：

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

{{article.reference}}

基金

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(1622 KB)

Accesses

Citation

Detail
段落导航
相关文章

版权所有：中国机械工程学会版权所有,未经同意请勿转载
技术支持：北京玛格泰克科技发展有限公司

/

〈 〉